来源:互联网 更新时间:2026-07-11 20:29
7月11日消息,在IEEE 2026电子元件与技术大会(ECTC)上,英特尔全面展示了下一代封装解决方案EMIB-T。
EMIB原本采用嵌入式硅桥在局部实现高密度互连,EMIB-T则在硅桥中引入硅通孔实现垂直供电。

电流可直穿基板抵达芯片,大幅缩短供电路径、提高供电密度。如果说EMIB是连接芯粒的桥梁,EMIB-T就是一座立交桥。

与台积电CoWoS相比,EMIB-T展现出显著优势。CoWoS将所有芯片放置在大面积硅中介层上,尺寸受光罩极限严格限制。EMIB采用局部硅桥嵌入有机基板,仅在需要互连的地方进行桥接。
谷歌下一代TPU已决定放弃台积电CoWoS,转向英特尔EMIB-T。联发科也在COMPUTEX 2026宣布下一代芯片将独家采用EMIB-T。EMIB-T的良率已突破90%。
到2028年英特尔计划将封装尺寸扩展至120×180毫米,集成超过24颗HBM堆栈。先进封装正从芯片连接走向系统级集成。

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