来源:互联网 更新时间:2026-06-08 12:29
6月8日消息,
这台ASML研发的最新High-NA EUV光刻机,每台单价高达3.8亿至4亿美元,是当前主流EUV设备的两倍多。
台积电的策略是先用好手里现有的EUV设备。魏哲家强调,现有光刻机搭配多重图案化技术,仍足以支撑先进制程的微缩需求,台积电有底气等High-NA EUV的经济账算得更划算时再出手。
不过他坦言,要把这台4亿美元的设备真正用起来,还需再等等。英特尔等竞争者早已将High-NA EUV提上量产日程,而台积电选择先研发、后投产更稳妥的路线,符合其一贯的成本纪律。
魏哲家预计,High-NA EUV将在真正需要单次曝光实现更细微线宽且晶圆成本开始具备竞争力的时间点,自然进入生产体系。

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