国产28nm光刻机SSA800批量交付 良率超90%？媒体辟谣：假消息！

5月10日消息，近日，

对此，芯智讯发布文章辟谣，直指该消息存在多处严重事实错误。

文章首先质疑了报道的信源问题。

报道声称"2026年1月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上首次官宣SSA800系列实现全面量产"。但调查发现，这个所谓的“长三角半导体产业峰会”没有任何权威媒体报道，查不到举办时间、地点、主办方等任何基本信息。上海微电子官方也从未发布过相关公告。网上所有关于该峰会的内容，全部都是与"上海微电子官宣量产"绑定的自媒体通稿。

另一个不实说法是"2026年3月SEMICONChina展会上，上海微电子首次公开展示了SSA800样机"。芯智讯记者明确表示，自己当时就在展会现场，上海微电子的展台上根本没有这款设备。展会期间及结束后，也没有任何正规媒体报道过此事。

即便指的是用它生产芯片的良率，这个数字也过于夸张。要知道台积电28nm工艺2011年量产后，直到2012年8月良率才勉强超过80%。

据了解，SSA800实际上就是近几年市场一直传闻的国产“28nm光刻机”，是一款193nmArF浸没式光刻机，套刻精度控制在2.3~2.5nm，每小时可处理150片晶圆，对标的是ASML TWINSCAN NXT:1950i。后者的专用卡盘套刻精度为2.5nm，混合匹配套刻精度为3.5nm，每小时可处理200片晶圆。

文章最后表示，期盼国产光刻机突破是每一个中国人的朴素情感，但越是渴望，越应该守住理性底线。虚假的"放卫星"不仅会误导公众，还会破坏产业链踏实攻坚的严肃性。

真正的技术突围，从来不需要靠炒作来证明自己。