国产光刻胶又一突破：DUV光刻+浸没式ArF打入国内头部晶圆厂

6月11日消息，在先进工艺方面，除了最受关注的光刻机之外，国内被卡脖子的环节还有先进光刻胶，现在又有一家公司杀进这个市场，开始给国内头部晶圆厂供货了。

鼎龙股份今晚发布公告，宣布近期在KrF/ArF高端晶圆光刻胶领域持续取得订单突破。

公司年产300吨KrF/ArF高端晶圆光刻胶产线自2026年3月20日投产后，

因公司光刻胶产品性能稳定、使用效果良好，上述两家客户近期合计新增订单近1,000 加仑。

截至本公告披露日，公司已有8款高端晶圆光刻胶（其中ArF光刻胶与KrF光刻胶各4款）取得多家国内主流晶圆厂客户的批量订单，即较今年一季度末新增5款，并有数款产品预期在今年年内实现订单转化。

公司正积极提升产品交付速度，2026 年上半年产品交付量预计显著提升，商业化进程显著加快。

测试进展方面，公司已经累计布局40余款高端晶圆光刻胶，近30款产品向客户送样开展验证测试，其中超10款进入加仑样测试阶段。

这个公告的意义在哪里？此前国内少说也有四五家公司宣布ArF光刻胶开始出样给厂商，但他们很少提及这个光刻胶的具体技术水平，

光刻胶虽然是半导体制造中的核心材料之一，但不同产品技术水平差异很大，最先进的当属EUV光刻胶，国内还在科研攻关中，而ArF是目前主流的DUV光刻机（193nm波长）所用的光刻胶。

但是ArF光刻胶是干式的还是浸没式的差别也很大，前者一般用于28nm之前的工艺，

鼎龙这次公告宣布的浸没式ArF光刻胶供货国内两大头部晶圆厂（具体可以猜猜是谁）也算是一个重要突破了，在此之前国内只有南大光电去年宣布给国内晶圆厂出样过浸没式ArF光刻胶，其他厂商多是含糊提到ArF或者KrF光刻胶出样。

当然，更详细的技术细节是没有企业官方公告的，一方面是国内产业发展的保密需要，另一方面估计也没有哪家企业愿意透露具体指标，股民们要的就是这种模糊感才有的想象空间。