台积电回应High-NA EUV光刻机使用计划：已购入但暂不量产

针对外界关于台积电因保守不愿投资下一代光刻设备的传言，台积电董事长魏哲家近日在股东大会上亲自进行了澄清。他表示，公司已经购买了最新的High-NA EUV光刻机，并且正在积极进行研发工作。然而，

这台由ASML研发的最新High-NA EUV光刻机，每台单价高达3.8亿至4亿美元，是当前主流EUV设备价格的两倍多。魏哲家坦言，设备过于昂贵是暂不将其用于大规模生产的主要原因。台积电目前的策略是

现有技术足以支撑先进制程需求

魏哲家在会上强调，现有的EUV光刻机，结合多重图案化等先进技术，仍然足以支撑2纳米乃至更先进制程的微缩需求。这给了台积电充分的底气，可以等待High-NA EUV技术的经济账算得更划算时再大规模部署。这种审慎的成本控制策略，符合其一向的经营纪律。

研发先行确保未来顺利投产

实际上，台积电早在2024年9月就已经接收了首台High-NA EUV光刻机，并将其安置在研发中心，专门用于开发下一代工艺所需的基础光刻技术。魏哲家认为，提前启动研发准备工作至关重要，这能确保在未来决定投产时，能够迅速达到可靠的良率与理想的产出效率。不过他也坦言，要将这台价值4亿美元的顶级设备真正用于生产线，还需要等待更合适的时机。

与英特尔等竞争者已将High-NA EUV提上量产日程的策略不同，台积电选择了“先研发、后投产”的更稳妥路线。魏哲家预计，High-NA EUV技术将在真正需要单次曝光实现更细微线宽、且晶圆生产成本开始具备竞争力的时间点，自然地融入生产体系。