尼康以价格优势挑战ASML光刻机市场，为芯片制造提供新选择

来源:互联网 更新时间:2026-05-31 17:28

在全球半导体制造设备领域，荷兰ASML凭借其极紫外光刻技术的领先地位占据了主导。然而，市场竞争格局正在悄然发生变化。日本光学巨头尼康正计划通过更具竞争力的价格策略，在关键的深紫外光刻机市场发起挑战，为全球芯片制造商提供了除ASML之外的另一个重要选项。

尼康首席执行官大村康弘近期透露，公司正致力于以低于竞争对手ASML的价格，争取新的ArF光刻机订单。这一策略的核心优势在于尼康能够自主生产许多关键零部件，从而在成本控制上具备独特竞争力。目前，尼康已与亚洲及美洲的主要芯片制造商展开深入谈判，并已接近达成采购协议。

ArF光刻机是深紫外光刻机中的高端品类，采用193纳米波长，分为干式和沉浸式两种类型，其中沉浸式技术更为先进。ASML当前主力的1980i、2000i型号便属于这一级别，这也是近年来进口量最大的光刻机类型之一。通过结合多重曝光等技术，ArF光刻机能够支持

7纳米级工艺的量产

。即使在极紫外光刻机普及后，芯片生产中的许多层仍需要依赖ArF光刻，以控制整体制造成本。

尼康与佳能不仅是相机领域的领导者，也曾是光刻机市场的重要力量。历史上，英特尔曾是尼康光刻机的主要客户，采购比例

。如今，尼康正试图重振在这一领域的地位。其ArF光刻机在光学镜头自主研发和关键尺寸均匀性方面表现优异。通过提供

的报价，尼康希望成为晶圆厂在采购ASML设备时的一个高性价比补充或替代选择，帮助制造商降低巨额设备投资压力。