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北京大学团队突破真3D芯片设计技术,详解逻辑折叠与赝3D核心差异

来源:互联网 更新时间:2026-05-27 12:59

在芯片设计领域,三维集成技术正成为突破摩尔定律瓶颈的关键路径。近日,北京大学集成电路学院的研究团队在面向“韬定律”3D逻辑折叠的“真3D”电子设计自动化(EDA)方向上取得了关键性进展。这项研究旨在为以华&为逻辑折叠技术为核心的下一代芯片设计方法,提供相匹配的底层工具支持,标志着从传统平面设计向真正三维空间优化的范式转变。

北京大学团队突破真3D芯片设计技术,详解逻辑折叠与赝3D核心差异

长期以来,芯片设计主要基于二维平面。即便采用多芯片堆叠的3D-IC技术,主流设计流程仍属于“赝3D”。北京大学团队明确指出,要充分发挥华&为提出的逻辑折叠技术潜力,必须发展全新的“真3D”EDA工具。这不仅是技术的升级,更是设计理念的根本性变革。

真3D与赝3D:划分粒度与优化空间的根本差异

北京大学的研究清晰界定了“真3D”与“赝3D”设计流程的核心区别,主要在于划分粒度和优化空间两个维度。

在划分粒度上,

“赝3D”以整个功能模块为最小单位,将其整体分配到某一片晶圆(die)上

,模块内部的所有标准单元必须位于同一片die。而“真3D”则支持模块内的自由划分,允许同一模块内的标准单元被精细地分布到垂直堆叠的不同die上,从而极大地扩展了设计空间和优化灵活性。

在优化空间上,“赝3D”本质是在每一片die上各自进行优化,大量复用传统2D芯片的EDA工具,

不允许跨die的逻辑变换、单元移动等关键操作

。相比之下,“真3D”将多片die构建的整体三维空间作为统一的设计空间,所有设计阶段都在这个完整的三维空间中进行全局搜索和协同优化,打破了die间的壁垒。

技术实现:构建统一的可微优化框架

为了承载逻辑折叠技术,北京大学团队构建了相应的物理实现EDA工具原型。该工具覆盖了布局规划和布局两个关键阶段,并通过GPU加速,能够支持千万级实例的超大规模设计。

在技术层面,该工具的创新之处在于

将跨die线长、混合键合端子数量与垂直方向的热路径优化纳入了一个统一的可微优化框架

。这使得标准单元能够在三维空间中协同放置,而不是被预先固定到某一片die上。同时,混合键合端子的使用量作为优化变量自动决策,可以在信号线长与跨die连接开销之间取得最佳平衡。

文章指出,逻辑折叠技术将“真3D”EDA推向了一个核心问题:物理实现的最小单位不再是“die”,而是“标准单元在三维空间中的位置”。北京大学团队表示,将持续投入这一前沿方向,与产业界共同努力,构建支撑下一代3D-IC设计的核心基础设施。

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