来源:互联网 更新时间:2026-05-27 12:59
在芯片设计领域,三维集成技术正成为突破摩尔定律瓶颈的关键路径。近日,北京大学集成电路学院的研究团队在面向“韬定律”3D逻辑折叠的“真3D”电子设计自动化(EDA)方向上取得了关键性进展。这项研究旨在为以华&为逻辑折叠技术为核心的下一代芯片设计方法,提供相匹配的底层工具支持,标志着从传统平面设计向真正三维空间优化的范式转变。

长期以来,芯片设计主要基于二维平面。即便采用多芯片堆叠的3D-IC技术,主流设计流程仍属于“赝3D”。北京大学团队明确指出,要充分发挥华&为提出的逻辑折叠技术潜力,必须发展全新的“真3D”EDA工具。这不仅是技术的升级,更是设计理念的根本性变革。
北京大学的研究清晰界定了“真3D”与“赝3D”设计流程的核心区别,主要在于划分粒度和优化空间两个维度。
在划分粒度上,
在优化空间上,“赝3D”本质是在每一片die上各自进行优化,大量复用传统2D芯片的EDA工具,
为了承载逻辑折叠技术,北京大学团队构建了相应的物理实现EDA工具原型。该工具覆盖了布局规划和布局两个关键阶段,并通过GPU加速,能够支持千万级实例的超大规模设计。
在技术层面,该工具的创新之处在于
文章指出,逻辑折叠技术将“真3D”EDA推向了一个核心问题:物理实现的最小单位不再是“die”,而是“标准单元在三维空间中的位置”。北京大学团队表示,将持续投入这一前沿方向,与产业界共同努力,构建支撑下一代3D-IC设计的核心基础设施。
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