来源:互联网 更新时间:2026-05-25 11:54
5月25日消息,在三星与SK海力士双双延迟第十代NAND量产节点之际,铠侠在堆叠层数层面率先交出了量产时间表。
技术规格上,BiCS10采用332层存储单元堆叠架构,相比现款BiCS8的218层增加约52%,位密度提升高达59%。
这款芯片沿用了CMOS直接键合阵列(CBA)架构,将逻辑电路和存储阵列分别在不同晶圆上制造后再键合。这种设计无需借助更复杂的PLC架构即可实现密度与可靠性的平衡。
生产布局方面,铠侠将BiCS10的量产任务分配至日本岩手县北上市的K2新工厂。该工厂配备专为高层NAND闪存设计的设备,在资本支出上较新建工厂大幅压缩。
值得注意的是,铠侠至今尚未正式收到大规模确认订单,相关投资轮廓预计到2026年下半年才逐步明朗。量产时间表与实际出货量之间的差距,仍是铠侠计划中最大的不确定因素。

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