来源:互联网 更新时间:2026-05-07 11:36
5月7日消息,近一段时间以来,在AI的刺激下,全球NAND闪存行业呈现前所未有的火爆,尤其是对大容量的渴求达到了空前的高度,如何高效地进一步提升存储密度也成了各大厂商的头等大事。
在这件事儿上,铠侠(原东芝存储)无疑是最有发言权的!

1980年,工程师舛冈富士雄首次提出Flash闪存的概念。
1989年,发布全球首款NAND Flash闪存芯片。
近二十年来,各大闪存厂商掀起了“军备竞赛”,不断增加堆叠层数,已量产超过300层,研发中的更是超过400层,未来甚至有望冲击1000+层!

但凡事都有个尽头。
未来随着堆叠层数继续加高,将进一步面临物理极限的限制,成本、良率、性能、可靠性等各方面的矛盾越发尖锐,乃至不可调和。
很自然,为了更高效地进一步推动闪存技术进步,必须探索其他更好的出路,铠侠的BiCS 8就做了很好的探索和尝试。

BiCS历经多代发展,堆叠层数一路增加,第二代48层、第三代64层、第四代96层、第五代112层、第六代162层……
铠侠这是掌握了什么外星黑科技吗?其中的秘密主要有四:
BiCS 8大大提升了横向密度,利用更先进的半导体制造工艺,尽可能缩小cell存储单元的物理尺寸,使之占用空间更小。
再加上存储单元布局的优化,自然可以使用同样的体积,容纳更多的存储单元,密度也就上去了。
这就相当于3D闪存大楼的每个房间都更小了,整体布局也更合理,每一层自然可以容纳更多房间。

传统上的闪存都是一块晶圆上同时制造存储阵列和CMOS电路,各家区别只是谁在上谁在下,比如铠侠BiCS 6走的是CuA,CMOS电洛在下,存储阵列在上。
这么做不仅涉及到不同工艺对两部分的干扰影响,也制约了层数和密度的增加。
如此一来,不同晶圆可以分别使用最优化的工艺进行制造、加工、优化,尤其是存储阵列部分可以尽情堆叠更多的层数,实现密度的跃升。
这在以往是做不到的,因为会严重劣化CMOS性能,同时该工艺还将相邻存储单元之间的电学干扰降低了多达20%。

当然,两块晶圆结合是相当不容易的,
下边就是BiCS 8的扫描电子显微镜放大图,其中粉色横线处是键合点,上方是存储阵列,下方是CMOS电路。

BiCS 8通过对字线(word-line)、位线(bit-line)、选择栅极(select-gate)施加不同的电压,实现对被访问存储单元的唯一选择。
选择栅极是由四列存储串(memory string)共享的,而各个选择栅极之间使用绝缘体进行电气隔离,并且绝缘体布置在有效的存储串之间,无法作为存储单元使用的一个虚假存储串(dummy memory string)则被取消,避免与绝缘体重叠,最终提高了存储密度。

Toggle DDR 6.0专为超高密度、超高带宽的3D闪存设计,不但可以轻松满足100-200层堆叠,未来的300+层也毫无压力。
相比于其他厂商主导的ONFI 5.0接口技术,Toggle DDR 6.0无论速率还是电路设计,都更胜一筹。

说了半天技术强悍,铠侠BiCS 8的实际表现到底如何呢?当然,我们不可能对闪存做评测体验,所以这里来看看一些权威的官方数据。
首先也是最直观的,多层堆叠闪存最想提高的存储密度,BiCS 8单块晶圆产出的位容量增加了多达55%。
作为对比,三星236层、SK海力士238层、美光232层虽然层数更多,但是1Tb TLC的密度都只有每平方毫米14.xGb,长江存储232层据说也只有每平方毫米15Gb出头。
与此同时,
正是有了如此高的存储密度、如此小的封装尺寸,

除了大肚能容,铠侠BiCS 8的性能和能效也可圈可点。
按照官方数据,
另外,编程带宽提升15%,写入性能提升20%,读取延迟降低超过10%,能效也改进了30%。

关于TLC、QLC,这里再多说两句。
TLC刚出来的时候,大家都只要MLC、不要TLC,但是如今也都接受了TLC,又看不上QLC。
诚然,QLC在可靠性、寿命上天然不如TLC,但一方面经过多年工艺和技术改进、算法优化、主控适配,已经可堪大用,另一方面QLC最大的优势,就是更高的存储密度。
铠侠在BiCS 8上也采用了TLC、QLC并行的策略,根据市场需求和场景需要,灵活匹配、提供不同的产品,从而在性能、能效和成本之间取得平衡。

铠侠存储器事业部部长井上敦史说过:
很显然,BiCS 8就是这一理念的最佳实践。它没有简单粗暴地堆叠更多层数,而是引入CBA双晶圆键合技术,结合架构与单元优化、接口技术提升,既大幅增加了存储密度创下行业记录,也显著提升了性能和能效,可以说重新定义了高端3D闪存的标准。
面向未来,铠侠同样独树一帜,花开两朵:
一是
复用现有的存储阵列,
二是
全方位升级,
期待闪存鼻祖在未来不断奉献更优秀的技术和产品,推动行业精彩继续!

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