来源:互联网 更新时间:2026-03-30 17:32
3月30日消息,据韩媒ETNEWS报道,位于西安的
本次制程升级工作自2024年启动,在原有V6(128层)NAND生产线基础上完成技术改造,旨在提升产品性能与生产效率,满足AI时代对高性能存储设备的需求。

三星电子中国西安工厂
在量产V8 NAND后,三星西安晶圆厂的下一步已瞄准286层堆叠的V9 NAND,相关生产线将位于X2工厂,计划在2026年内完成转换并开始大规模生产。
据悉,3D NAND 闪存的堆叠层数是衡量厂商技术实力的核心指标,更高的堆叠层数可实现更大的单芯片存储容量、更优的读写性能与更低的单位存储成本,是全球存储厂商技术竞赛的核心赛道。
值得一提的是,
这使得其他厂商越来越难以抵御来自中国本土的200层以下闪存产品的竞争。
在技术竞赛的同时,韩国巨头正采取"价格防御"策略,三星计划将NAND晶圆年产量从2025年的490万片降至2026年的468万片,SK海力士也将从190万片降至170万片,减幅均约10%。
市场研究机构Omdia指出,韩国厂商此举意在优先保障高利润的DRAM和HBM产能,同时应对长江存储在通用型NAND市场的激烈竞争。
技术层面,长江存储在存储密度上已达到世界领先水平,良品率稳定突破90%,大幅提升了成本竞争力。
产能方面,长江存储武汉三期工厂预计2026年下半年投产,月产能目标冲刺30万片晶圆,三年内产能接近翻倍。

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